三星电子和SK海力士向光刻机巨头ASML订购了下一代半导体设备高NA极紫外曝光设备

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据etnews报道，三星电子和SK海力士向光刻机巨头ASML订购了下一代半导体设备高NA极紫外曝光设备继TSMC和英特尔之后，韩国半导体制造商也准备推出能够实现2纳米工艺的器件对最先进技术的竞争预计会加剧

在10月19日的财报公告中，ASML表示:在EUV高NA业务中，ASML获得了TWINSCAN EXE的额外订单:5200，目前，所有EUV客户都提交了高NA订单高NA EUV设备是一种将聚光透镜的数值孔径从0.33提高到0.55的设备与现有的EUV设备相比，它可以处理更精细的半导体电路大多数业内人士认为，高NA设备对2nm工艺至关重要

NA称为数值孔径，是光学透镜的一个重要指标一般情况下，光刻机设备会明确标出这个指标的值当光源波长一定时，NA的大小直接决定了光刻机的实际分辨率，也决定了光刻机能达到的最高工艺节点

今年9月，ASML表示，它正准备向客户交付第一台高NA EUV光刻机，将于明年某个时候完成。

英特尔和TSMC已经正式宣布从高钠引进EUV设备当英特尔去年宣布其整合半导体公司的战略，目标是重新进入OEM市场时，它宣布这些公司是第一个订购高NA EUV设备的公司这是为了通过首先引进下一代设备来赶上TSMC和三星电子的系统半导体生产能力TSMC也宣布了订购高NA EUV设备的合同，但三星电子和SK海力士没有提及任何有关合同的内容伴随着ASML的宣布，韩国半导体制造商引入高NA设备已得到官方确认可是，三星电子和SK海力士表示，关于引进高NA EUV设备，这是不能正式透露的事情ASML现有的EUV设备客户包括三星电子，SK海力士，英特尔，TSMC，美光等

由于全球所有半导体制造公司都已订购ASML高NA EUV设备，预计2025年开始量产时将展开激烈竞争高NA EUV设备比目前使用的EUV设备更昂贵，但它可以一次实现超细加工，可以大大提高生产率就三星电子而言，需要保证高NA EUV设备在3nm量产后用于2nm量产现有的EUV装备预计耗资2000亿韩元至3000亿韩元，而韩元的EUV装备预计耗资5000亿韩元

本站了解到，ASML此前公布第三季度净销售额为58亿欧元，毛利率为51.8%，净利润为17亿欧元第四季度净销售额预计在61亿欧元至66亿欧元之间

ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示:第三季度净销售额为58亿欧元，毛利率为51.8%，高于预期受通胀，消费者信心和经济衰退风险等全球宏观经济因素的影响，市场存在不确定性尽管每个细分市场的需求动态有所不同，但我们的总体客户需求仍然强劲这推动第三季度新订单额达到约89亿欧元，创历史新高，其中38亿欧元来自EUV系统订单，包括高NA系统订单

面膜对准器巨头ASML第三季度销售额为58亿欧元:净利润为17亿欧元，净预订为89亿欧元，创历史纪录。